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1. 배경: 왜 확산을 고려할까?
- 반도체 소자는 대부분 비평형 상태에서 동작함.
- 전기장에 의한 전류(드리프트)만으로는 소자의 동작을 설명하기 어려움
- 도핑, 빛, 열 등에 의해 발생하는 전자 밀도 차이로 인한 전류 흐름이 필요
- 실제 전류는 다음과 같이 드리프트와 확산이 함께 존재:
- \[
J_n = qn\mu_n E + qD_n \frac{dn}{dx}
\]
==========𝔼𝔼𝟚𝟚==========
2. 본질: 확산 전류란 무엇인가?
- 확산은 입자가 농도가 높은 쪽에서 낮은 쪽으로 퍼지는 자연 현상
- 반도체 내 전자들은 열 에너지로 인해 무작위 운동 중이며,
- 농도 차이가 존재하면 전체적으로는 한쪽 방향의 흐름이 생김
- 전기장이 없어도 이 흐름이 전류로 작용 → 확산 전류
==========𝔼𝔼𝟚𝟚==========
3. 그럼 확산 전류가 왜 생기는가?
- 전자의 농도 차이 \(( \frac{dn}{dx} )\) 가 존재할 때 발생
- 원인:
- 도핑 농도 구배
- 빛에 의한 전자-정공 생성 (EHP)
- 온도 구배
- 농도 구배를 해소하려는 자연 현상이 확산 전류로 나타남.
- 구배 : 농도의 기울기
==========𝔼𝔼𝟚𝟚==========
4. 유도 과정 요약
- 위치 ( x )에서 왼쪽과 오른쪽에서 오는 전자의 차이를 전자 플럭스로 표현:
\[
\phi_n = \frac{1}{2}v[n(x - l) - n(x + l)]
\] - 테일러 전개 사용:
\[
n(x \pm l) \approx n(x) \pm l \frac{dn}{dx}
\] - 대입 결과:
\[
\phi_n = -v l \cdot \frac{dn}{dx}
\] - 확산 계수 정의:
\[
D_n = \frac{1}{2} v l
\] - 전류 밀도는 전하량을 곱한 값:
\[
J_n = q \cdot \phi_n = -q D_n \cdot \frac{dn}{dx}
\]
==========𝔼𝔼𝟚𝟚==========
5. 식 해석 (\( J_n = -q D_n \frac{dn}{dx} \))
- \( J_n \): 전자 확산 전류 밀도 (A/cm²)
- \( q \): 전자 전하량 (1.6 × 10⁻¹⁹ C)
- \( D_n \): 확산 계수 (cm²/s)
- \( \frac{dn}{dx} \): 전자 농도 기울기
→ 전자 농도가 높은 쪽에서 낮은 쪽으로 이동하는 방향의 전류이며, 음의 부호는 방향성 반영
==========𝔼𝔼𝟚𝟚==========
6. 이동도와의 관계 (Einstein Relation)
\[
\frac{D_n}{\mu_n} = \frac{kT}{q}
\]
- \( \mu_n \): 전자 이동도
- \( k \): 볼츠만 상수 \( \approx 1.38 \times 10^{-23} , \text{J/K} \)
- \( T \): 절대온도 (K)
→ 확산 계수는 온도와 이동도에 의해 결정됨
==========𝔼𝔼𝟚𝟚==========
7. 요약
- 확산 전류는 자연적인 밀도 구배로 인해 생기는 전류
- 외부 전기장 없이도 전자 밀도 차이만으로 전류가 흐름
- 반도체 소자의 동작에는 드리프트 + 확산 전류 모두 고려되어야 함
- 유도는 전자 운동의 통계적 모델에서 출발하여 수학적으로 정식화됨
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